Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: http://hdl.handle.net/2307/149
Titolo: Realizzazione ed analisi di transistor a film sottile a canale n e p a silicio policristallino
Autori: Cuscunà, Massimo
Relatore: Evangelisti, Florestano
metadata.dc.contributor.referee: Migliorato, Piero
Data di pubblicazione: 2006
Editore: Università degli studi Roma Tre
URI: http://hdl.handle.net/2307/149
È visualizzato nelle collezioni:X_Dipartimento di Fisica 'Edoardo Amaldi'
T - Tesi di dottorato

File in questo documento:
File Descrizione DimensioniFormato
capitolo1.pdf1.46 MBAdobe PDFVisualizza/apri
capitolo2.pdf1.16 MBAdobe PDFVisualizza/apri
capitolo3.pdf1.4 MBAdobe PDFMuuji/fur
capitolo4.pdf743.46 kBAdobe PDFMuuji/fur
capitolo5.pdf565.76 kBAdobe PDFMuuji/fur
elenco_pubblicazioni.pdf59.79 kBAdobe PDFMuuji/fur
indice.pdf67.86 kBAdobe PDFMuuji/fur
introduzione.pdf96.62 kBAdobe PDFMuuji/fur
prima_pagina.pdf98.12 kBAdobe PDFMuuji/fur
conclusioni.pdf99.25 kBAdobe PDFMuuji/fur
Muuji xogta qoraalka Ku tali qoraalkan

Page view(s)

336
checked on Jun 9, 2026

Download(s)

1,195
checked on Jun 9, 2026

Google ScholarTM

Check


Dhammaan qoraallada lagu kaydiyay DSpace waxay u dhowrsanyihiin xuquuqda qoraha.