Realizzazione ed analisi di transistor a film sottile a canale n e p a silicio policristallino

Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/2307/149

DC Field	Value	Language
dc.contributor.advisor	Evangelisti, Florestano	-
dc.contributor.author	Cuscunà, Massimo	-
dc.contributor.other	Fortunato, Giuseppe	-
dc.date.accessioned	2009-01-15T09:36:27Z	-
dc.date.available	2009-01-15T09:36:27Z	-
dc.date.issued	2006	-
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/2307/149	-
dc.language.iso	it	en
dc.publisher	Università degli studi Roma Tre	en
dc.title	Realizzazione ed analisi di transistor a film sottile a canale n e p a silicio policristallino	en
dc.type	Doctoral Thesis	en
dc.subject.miur	Settori Disciplinari MIUR::Scienze fisiche::FISICA DELLA MATERIA	en
dc.subject.miur	Scienze fisiche	-
dc.subject.isicrui	Categorie ISI-CRUI::Scienze fisiche	en
dc.subject.isicrui	Scienze fisiche	-
dc.subject.anagraferoma3	Scienze fisiche	en
dc.contributor.referee	Migliorato, Piero	-
dc.description.romatrecurrent	Dipartimento di Fisica 'Edoardo Amaldi'	*
item.grantfulltext	open	-
item.fulltext	With Fulltext	-
item.languageiso639-1	other	-
Appears in Collections:	X_Dipartimento di Fisica 'Edoardo Amaldi' T - Tesi di dottorato

File	Size	Format
capitolo1.pdf	1.46 MB	Adobe PDF	View/Open
capitolo2.pdf	1.16 MB	Adobe PDF	View/Open
capitolo3.pdf	1.4 MB	Adobe PDF	View/Open
capitolo4.pdf	743.46 kB	Adobe PDF	View/Open
capitolo5.pdf	565.76 kB	Adobe PDF	View/Open
elenco_pubblicazioni.pdf	59.79 kB	Adobe PDF	View/Open
indice.pdf	67.86 kB	Adobe PDF	View/Open
introduzione.pdf	96.62 kB	Adobe PDF	View/Open
prima_pagina.pdf	98.12 kB	Adobe PDF	View/Open
conclusioni.pdf	99.25 kB	Adobe PDF	View/Open

52

checked on Apr 19, 2024

589

checked on Apr 19, 2024

Check