Realizzazione ed analisi di transistor a film sottile a canale n e p a silicio policristallino

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DC Field	Value	Language
dc.contributor.advisor	Evangelisti, Florestano	-
dc.contributor.author	Cuscunà, Massimo	-
dc.contributor.other	Fortunato, Giuseppe	-
dc.date.accessioned	2009-01-15T09:36:27Z	-
dc.date.available	2009-01-15T09:36:27Z	-
dc.date.issued	2006	-
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/2307/149	-
dc.language.iso	it	en
dc.publisher	Università degli studi Roma Tre	en
dc.title	Realizzazione ed analisi di transistor a film sottile a canale n e p a silicio policristallino	en
dc.type	Doctoral Thesis	en
dc.subject.miur	Settori Disciplinari MIUR::Scienze fisiche::FISICA DELLA MATERIA	en
dc.subject.miur	Scienze fisiche	-
dc.subject.isicrui	Categorie ISI-CRUI::Scienze fisiche	en
dc.subject.isicrui	Scienze fisiche	-
dc.subject.anagraferoma3	Scienze fisiche	en
dc.contributor.referee	Migliorato, Piero	-
dc.description.romatrecurrent	Dipartimento di Fisica 'Edoardo Amaldi'	*
item.grantfulltext	open	-
item.languageiso639-1	other	-
item.fulltext	With Fulltext	-
Appears in Collections:	X_Dipartimento di Fisica 'Edoardo Amaldi' T - Tesi di dottorato

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